Unsere Stromversorgungen sind ausgelegt für den alltäglichen Einsatz in der industriellen Produktion überall dort wo Vakuum Plasma Prozesse Anwendung finden.

Die Stromversorgungen werden sind je nach Anwendungsfall jeweils speziell für

• Sputterprozesse
• BIAS Anwendungen
• Arc Kathodenversorgung
• DUAL-Magnetron Anwendungen
• Impuls-Magnetron Anwendungen

optimiert. Ein breit gefächertes Angebot an verschiedenen Leistungsklassen erlaubt die jeweils optimale Wahl für jede Anwendung zwischen 1 kW hoch bis zu 60 kW bzw. 240 kW. Alle Geräte können parallel betrieben werden und erlauben so die Leistung zu erhöhen oder Redundanz zu erreichen.

Geräte im mittleren und hohen Leistungsbereich haben eine hervorragende Leistungsdichte (Leistung/Gerätevolumen) und sind somit enorm Platz sparend. Geringe Baugröße und geringes Gewicht bieten Vorteile ohne Kompromisse bei der Zuverlässigkeit. Hohe Effizienz bei der Leistungswandlung reduziert die Abwärmeerzeugung, wodurch die Anforderungen an die Kühlsysteme niedrig gehalten werden können. Alle Geräte sind luftgekühlt, wodurch die Wartungskosten gering gehalten werden können. Optional können Geräte der mittleren und hohen Leistungsklasse auch wassergekühlt bestellt werden.